PMK-C上均质双向搅拌真空乳化机是如何成为国内最先进的设备

真空均质乳化机组由乳化锅(可升降锅盖、翻转式锅体)水锅、油锅、真空装置、加热及温度控制系统、冷却系统、电器控制系统等组成。物料在水锅、油锅内通过加热、搅拌进行混合反应后,由真空泵吸入乳化锅,通过乳化锅内上部的中心搅拌、聚四氟乙烯烯刮板始终迎合搅拦锅形体,扫净挂壁粘料,使被括取地物料不断产生新界面,再经过叶片与回转叶片的剪断、压缩、折叠,使其搅拌、混合而向下流往锅体下方的均质器处,物料再通过高速旋转的切割轮与固定的切割套之间所产生的强力剪断、冲击、乱流等过程,物料在剪切缝中被切割,迅速破碎成200um-2um的微粒,由于乳化锅内处于真空状态,物料在搅拌过程中产生的气泡被及时抽走。

料锅锅盖为自动升降式,水锅、油锅中的物料通过输送管道可在真空状态下直接吸入乳化锅,出料方式为乳化锅锅体翻转可倾式,通过电热管对锅夹层内的导热介质进行加热来实现对物料的加温,加热温度任意设定,自动控制。在夹层内接入冷却水即可对物料进行冷却,操作简单、方便,夹层外设有保温层。均质搅拌与桨叶搅拌可分开使用,也可同时使用。物料微粒化、乳化、混合、调匀、分散等可于短时间内完成。与物料接触部位采用优质不锈钢(医用采用L316材料制造,内表面镜面抛光,真空搅拌装置卫生清洁,采用符合GMP规范的卫生标准制造。是最理想的膏、霜生产设备)。PMK-C10L/PMK-C20L/PMK-C50L/PMK-C100L/PMK-C200L/PMK-C300L/PMK-C500L/PMK-C1000L/PMK-C2000L

上均质双向搅拌真空乳化机,包括机架,及安装于机架上的预乳化反应单元、乳化反应单元,以及与所述预乳化反应单元和乳化反应单元连接并控制其运行的电路控制单元,所述乳化反应单元包括乳化锅及与其适配的乳化锅搅拌机构,所述乳化锅包括锅身和锅盖,所述乳化锅搅拌机构包括搅拌框及设于搅拌框内的纵向搅拌轴,所述纵向搅拌轴上设有上下布置的搅拌桨,所述纵向搅拌轴的底部还设有一均质头;所述搅拌框的内壁上设有上下布置的搅拌叶片,所述搅拌框的底部及外侧边沿上还设有刮板;所述搅拌框与纵向搅拌轴具有相反的搅拌方向,所述框式双向搅拌上均质乳化机还包括设于乳化锅底部的出料机构。

真空均质乳化机引进国外先进科技,根据化妆品、药膏类产品的制膏工艺而专业设计的,本机组采用上部同轴三重型搅拌器,液压升降开盖,快速均质搅拌器转速:0-3500r/min(变频调速)、慢速刮壁搅拌器转速:0-63r/min(变频调速)、均质器采用高剪切涡流式乳化搅拌机,慢速刮壁搅拌自动紧贴锅底及锅壁。采用真空吸料,特别对粉体物料利用真空吸入避免粉尘飞扬。整个工序在真空条件下进行,防止物料在高速搅拌后产生气泡,能达到卫生无菌要求。本系统配有CIP清洗系统、容器与物料接触部分采用SUS316L材料制造、内表面镜面抛光300EMSH(卫生局)为了确保控制部分的稳定、真空泵采用日本富士公司产品、变频采用日本松下电工、电器控制部分采用西门子公司产品。本机组完全符合GMP要求制造,是目前国内最先进、最理想的膏、霜生产设备。

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